《重生：指点老爸做寡头，我躺平了》14、 集全国之力，拉开光刻技术角逐战 免费试读
下午五点。
杨玄跟着陈新龙到国家科学院微电子研究中心，下出租车，看到大门前站着人。
为首的是一位七十多岁的老太太。
没有陈新龙的介绍，杨玄一眼就认出来了。这个人就是国家微电子研究所所长吴德新。
一个非常坚强的女人。
“吴教授，很高兴认识你。”
杨玄秉承尊重的态度，他主动跟他打招呼:“没想到我的一个设计稿引起这么大的恐慌。”
“哦...你是光刻机的天才儿童吗？”
吴德新教授诧异地看着杨玄，伸手紧紧握住。“嗯...我告诉过你，我们的民族肯定比外国人强。”
“吴教授，您是我国微电子的功勋人物。”
杨玄很了解吴德新的履历。
甚至之前我所在的手机硬件领域，每次接触一些芯片专家，几乎一半都是吴德新的学生。
“呵呵...不，老了。”
吴德新教授走来走去，指着旁边几个同样三六十岁的老人，开始介绍。
“小伙子，你的设计稿，涉及的核心技术，太深了。”
“以我国目前的光刻技术水平，还很难理解……”
“所以，这次为了向大家学习，我给这些老同学打了电话。”
“这位是光学研究所的彭思俊教授、半导体研究所的黄振东教授、环境工程研究所的许教授、化学研究所的沈教授……”
“我们都带来了自己的团队。等一下，你可以自信地告诉我们……”
“因为光刻涉及的领域如此之多，恐怕微电子领域的工作者很难完全理解。”
吴德新教授一点清高的架子都没有。面对杨玄时，他像学生一样谦逊。
“你好，年轻人……”
“小伙子，你现在是我们的老师了……”
“小伙子，你还是个高中生……”
“非常……”
来自光学、化学、半导体、环境工程四大研究院的老教授们热情地携手并进杨玄。
然而。
杨玄受宠若惊。
因此，几乎三分之一的科学院研究中心被召来，一名青少年被允许来上课。
别说重生后，就算是重生前，以杨玄的知识水平，哪里够用？
“你前辈，你前辈……”
握手之后，杨玄双手合十哭笑不得:“你是大三。我只是知道一些粗略的设计概念和具体的R&D技术，但我仍然要依靠你的前辈。”
“小伙子，别谦虚了，去走走……”
吴德新教授拉着杨玄的手，就像溺爱孙子一样，转身进了微电子学院。
除了这五位德高望重的老教授，他们背后还有一大批学生。
有三四十岁的中年人和年轻人，也有二十多岁的年轻人，他们鼻梁上都戴着眼镜，手里都拿着笔记本，看起来都像是崇拜者。
杨玄据粗略估计，现场至少有100人。
这是一种怎样的方式。
你知道，这是郭龙科学院，但它是国家光刻技术领域的顶尖技术团队。
一间约200平方米的教室，推开门，摆着几个口罩对准器、一个讲台和一张讲桌。
吴德新把杨玄带到讲台上，招呼大家坐下，又拍了拍杨玄的手，抬头问道。
“小伙子，你一路上好像都很紧张。”
“没事，别害怕...不管你的想法是对是错，放手吧。”
“虽然我们这些老家伙老了，但我们可以一辈子做学生。”
“能在这个年纪遇到你这样的老师，也是我们的荣幸。”
说完，吴德新教授从讲台上缓缓转身，在助手的帮助下坐到了学生桌前。
很明显。
杨玄现在被鸭子赶上架，自己带过来的陈新龙，此时已经变成了小迷弟，坐在很远的角落里，等着讲课。
快去。
反正在这个节骨眼上，退走是没有意义的。
杨玄深深地吸了一口气，决定根据我在未来十五年的所知所见，做一个大胆的演讲。
“各位前辈，在我解释之前，我想先说说目前世界上掌握高端光刻技术的几家机构。”
“传统光刻技术没有市场优势……”
“2002年，DUV技术在干ArF后期演化为两个主要的演化方向……”
“一是用157nm F2准分子光源替代193nm ArF光源。这种方法比沉浸式ArF更保守，代表厂商有尼康和佳能。”
“其次，采用TSMC·林本坚的方案，仍然使用193nm的ArF光源，但透镜和光刻胶之间的介质由空气变为液体。”
“193纳米光折射后的等效波长为134纳米，从而获得比F2光源更高的分辨率。”
“水下ArF的代表厂商是和万集成电路。由于F2光源不能穿透水，所以无法结合浸没技术进一步提高分辨率。ArF湿法在光刻精度上优于F2。”
"以ArF沉浸式为切入点，ASML成为了DUV时代的领导者."
“2002年，万基林迪安的本剑提出了ArF浸没方案，随后ASML在2003年成功推出了第一台浸没式光刻样机。”
“尼康也将在明年成功推出ArF浸没式掩模对准器，但市场机会已经被ASML夺走。”
“随着ASML和湾湾集成电路ArF浸没技术的成功，ASML和TSMC实现了双赢。”
